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Ishizawa-Lab - Nadeshiko Keana Reismaske

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Eigenschaften

Inhaltsstoffe
Wasser, BG, Reiskleieöl, Glycerin, Ethylhexylpalmitat, Polysorbat 60, Glycerylstearat, Cetanol, Cyclopentasiloxan, fermentierte Reisflüssigkeit, Reiskleieextrakt, Reiskleie-Glykosphingolipid, Glykosphingolipid, Artischockenblatt-Extrakt, Sheabutter, Behenylalkohol, Vaseline, hydriertes Lecithin, Lysolecithin, Carbomer, Tocopherol, Natriumacrylat-Pfropfstärke, Kaliumhydroxid, Natriumhydroxid, Etidronsäure 4Na, Methylparaben, Propylparaben

Beschreibung

Beauty Luxe
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